7月6日消息（颜翊）据报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，计划面向中国市场推出特别版深紫外光刻（DUV）光刻机。
该工具将符合最新的美国出口规定，可以在没有许可证的情况下运给中国客户。这款设备将使中芯国际（SMIC）和华虹等公司能够在28纳米级及以上制程上制造芯片。
该特别版光刻机是基于Twinscan NXT:1980Di改造，目前这是台积电仍在投入生产的最低级别的型号，该机器具备1.35数值孔径光学系统，分辨率小于38纳米，理论上支持7纳米级及更先进的节点。事实上，这台光刻机最初于2016年发布，曾被台积电用于开发其7纳米级工艺技术。
报道称，ASML可以对该设备进行改造，提高其最低支持的分辨率，以防止中芯国际和其他中国芯片制造商制造低于28纳米的工艺技术。考虑到中芯国际绝大部分收入来自28纳米及以上的生产节点，中国公司很可能仍然对采购这类工具感兴趣。
根据最新的出口法规，美国公司和个人必须获取许可证才能出口能够制造14纳米/16纳米及以下制程的非平面晶体管结构的逻辑芯片、128层及以上的3D NAND以及半间距18纳米以下的DRAM存储芯片的工具和技术。对于从美国出口组件的非美国公司，同样适用这些规定，ASML和Twinscan NXT:1980Di也受到限制。
根据最新的荷兰出口规定，ASML需要获取出口许可证才能向中国公司销售Twinscan NXT:2000i光刻机。ASML尚未正式推出Twinscan NXT的特别版本，但如果出口规定继续限制向中国销售先进技术，此举似乎是可能的。
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