驱动中国2023年11月3日消息,近日,三星电子本周向投资者透露,近期将过渡和推进光刻技术,计划 2024 年下半年向市场推出采用第二代 3nm 工艺技术(SF3)以及量产版 4nm 工艺(SF4X)的产品。
三星声称,SF3 将提供更大的设计多功能性,可以在相同的单元类型中,为不同的全栅极 (GAA) 晶体管提供不同的纳米片通道宽度。不过,尽管三星没有直接比较 SF3 和 SF3E,但三星表示 SF3 比 SF4(4LPP、4nm 级、低功耗)有重大改进:包括在相同功率和复杂性下性能提高 22%,或者在相同频率和晶体管数量下功耗降低 34%,以及逻辑面积减少 21%。
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