佳能光刻机价格或比ASML EUV设备便宜更多

11月6日消息，佳能计划将其新型芯片制造设备的定价定在ASML最先进的光刻机成本的一小部分，以期在尖端设备领域取得进展。

集微网报道，佳能CEO御手洗富士夫表示，该公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，目前这种技术几乎完全属于该行业最大的公司。这款产品的价格将比ASML的EUV设备低一位数，不过最终的定价决定还没有做出。

据悉，ASML是极紫外光刻工具的唯一供应商，极紫外光刻工具是世界上最先进的芯片制造机器，每台价值数亿美元。EUV设备是数十年研究和投资的产物，对于大规模生产速度最快、最节能的芯片至关重要。

只有少数现金充裕的公司有能力投资于这些工具，这些工具目前正因其在科技供应链中的关键地位而受到审查。在美国向其盟友施压，要求其限制技术流向中国之后，ASML被禁止向中国客户出口EUV系统。

这给佳能上个月上市的新工具带来了希望。7月，日本扩大了对芯片制造出口的限制，但没有明确提到纳米压印光刻技术。御手洗富士夫称，佳能可能无法将这些机器运往中国。14纳米技术以外的任何产品都是禁止出口的。

据了解，佳能与大日本印刷和存储芯片制造商铠侠合作研究纳米压印工艺已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能的技术将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称与最先进节点相当的几何形状的芯片，尽管速度要慢得多。这台新机器让芯片制造商可以选择降低对代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等代工芯片制造商更有可能批量生产芯片。佳能表示，这种机器所需的功率只有其EUV同类产品的十分之一。

御手洗富士夫表示：“我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求，我们已经收到了很多客户的咨询。”

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