英特尔公布未来制程技术路线图,有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机

7月27日,在Inel Accelerated大会上,英特尔首席执行官基辛格(Pat Gelsinger)表示,摩尔定律仍在持续生效。

在当天大会上,英特尔公布了未来制程技术路线图,同时介绍了下一代极紫外光刻(EUV)技术的使用计划。根据进展,英特尔有望得 获得业内第一台High-NA EUV光刻机。而在客户上,基辛格透露已与AWS签约,该公司将成为第一个使用英特尔代工服务(IFS)封装解决方案的客户。同时,高通也将采用Intel 20A制程工艺技术,这一技术预计将在2024年推出。

在发布会上,英特尔公布了未来5年的技术路线图,对芯片的制程工艺进行了新的命名,10纳米Enhanced SuperFin更名为“Intel 7”、Intel 7纳米更名为“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代将是“Intel 20A”、 “Intel 18A”。

此外,基辛格表示,预计在今年年底前宣布在欧洲以及美国的进一步工厂布局。“这将是一笔足以支持大型晶圆厂的巨额投资,虽然我们自己已在推进其中的一些投资项目,但同时欢迎美国和欧盟的政策制定者能够以紧迫感采取行动,加快我们和集成电路产业其他公司的项目进展。”

极客网企业会员

免责声明:本网站内容主要来自原创、合作伙伴供稿和第三方自媒体作者投稿,凡在本网站出现的信息,均仅供参考。本网站将尽力确保所提供信息的准确性及可靠性,但不保证有关资料的准确性及可靠性,读者在使用前请进一步核实,并对任何自主决定的行为负责。本网站对有关资料所引致的错误、不确或遗漏,概不负任何法律责任。任何单位或个人认为本网站中的网页或链接内容可能涉嫌侵犯其知识产权或存在不实内容时,应及时向本网站提出书面权利通知或不实情况说明,并提供身份证明、权属证明及详细侵权或不实情况证明。本网站在收到上述法律文件后,将会依法尽快联系相关文章源头核实,沟通删除相关内容或断开相关链接。

2021-07-27
英特尔公布未来制程技术路线图,有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机
【TechWeb】7月27日,在Inel Accelerated大会上,英特尔首席执行官基辛格(Pat Gelsinger)表示,摩尔定律仍在持续生效。

长按扫码 阅读全文