10月27日,第十二届中国国际纳米技术产业博览会(CHInano2021)在江苏省苏州市工业园区国际博览中心正式开幕。本届纳博会集“会、展、赛、奖、发布”于一体,聚焦纳米新材料、微纳米制造、第三代半导体等纳米技术产业化前沿与热点,打造全方位展览展示平台,推进纳米技术产业高端交流、合作对接与创新发展。西人马公司携带多款MEMS芯片和传感器产品亮相第十二届纳博会,全方位展示了西人马的MEMS产品线和技术研发实力。西人马公司的展台位于B馆T27展位。
在开幕当天的颁奖仪式上,西人马公司很荣幸地获得了大会组委会颁发的“2020年中国半导体MEMS十强企业”奖项。每年出炉的“中国半导体MEMS十强企业”评选是对国内MEMS企业的一次大检阅,该奖项证明了国内近期MEMS领域头部企业的实力和价值,堪称是MEMS企业奖项中的“奥斯卡奖”。
△Averie博士(左起第四人)代表西人马领奖
这是西人马公司首次获得这项殊荣,也是对西人马公司多年来深耕MEMS传感器领域所取得的成绩的最好肯定和赞誉。西人马公司将会再接再厉,继续推进中国MEMS传感器技术的发展和进步。
本届纳博会由科技部、中国科学院指导,中国微米纳米技术学会、中国国际科学技术合作协会主办,是国内规模最大的纳米技术交流盛会,纳博会所在的苏州国际博览中心展区面积达1.8万平方米,吸引了1600多家科技企业、科研机构、行业协会到场。展会为期3天,其间将发布10场专业报告、258场行业报告。
西人马公司十分重视参加本届苏州纳博会的活动,为此打造了一个面积为36平方米的展台,全方位展出了西人马公司的芯片和传感器产品,并向参展嘉宾和客户详细介绍了西人马公司。
△西人马展台聚集着很多前来咨询参观的客户
西人马具备深厚的科研实力
西人马公司拥有近千名员工,科研人员占比超过60%,其中95%以上为硕博士学历。公司拥有500多项专利,并以每年30%以上的速度递增,此外还有近300套工作说明及标准作业指引。西人马遵循目前国际最高标准《航空AS9100D》和《医疗ISO13485》,具有ISO/IEC17025资质的实验室并取得CNAS认证。西人马公司的全部校准人员都经过ISO17025培训并取得资质。
△西人马通过的国际标准认证
西人马公司一直致力于先进MEMS芯片及传感器制造,拥有MEMS高端传感器和芯片制造基地,包括各类先进的MEMS芯片、功能材料芯片及传感器的封装与测试设备,客户主要集中在能源、民用航空、轨道交通、精密仪器、工业自动化、物联网等领域,同时为全球客户提供MEMS芯片的OEM和ODM服务。
经过多年的发展,西人马已经成为业内知名的IDM芯片公司以及“端-边-云”一体化解决方案服务商,具备芯片和传感器材料合成、设计、制造、封装和测试全方位能力。
在芯片方面,西人马开发了压力系列、红外系列、陀螺仪系列以及电荷放大器系列的芯片。其中的压力芯片、红外热电堆芯片的高灵敏度、快速响应和测量范围宽的优秀品质在业界备受好评。
△西人马展出的红外热电堆芯片
西人马的传感器产品包括加速度、压力、位移、滑油品质和陀螺等类型。其中压电式加速度传感器AYDV/AYDC等系列目前在飞机发动机、风力发电机组、智慧钢厂等行业的振动监测系统中应用较多。该系列传感器有优异的频响特性和极佳的信噪比,并且体积小、重量轻、温漂低,可以应用于高端轴承、机翼、旋翼的监测,可大大减少对被测系统的影响。
西人马的边缘计算通过自主设计的软硬件平台,以强大的数据采集能力和AI算法能力为依托来实现,可以满足不同行业或应用场景下的自检、故障侦测、隔离、以及恢复机制等需求。
塔斯云是西人马结合机器神经系统搭建的现代化数据密集型应用平台,以数据融合为基础,支持多种算法,可提供基于云计算、人工智能、运算一体化、全量数据安全的一站式自助敏捷开发服务,完美适用冲击脉冲分析、能量谱分析、人脸识别、行为分析、故障检测等多种场景。
△西人马塔斯云平台界面
西人马公司具备硅基芯片及非硅基芯片设计、制造、封装和测试全方位能力,基于这些先进的核心技术,西人马既可以单独给客户提供高品质的芯片产品,也可以提供相应的模组和解决方案,利用西人马先进的传感器、边缘计算产品和云工具开发套件帮助客户快速地搭建起具有监测与控制功能的AIoT系统。
先进的MEMS制程工艺和质量管控
西人马公司在纳博会上展出了MCU芯片、AI SoC芯片、压力芯片、加速度传感器、压力传感器、滑油品质传感器、光学/红外传感器。其中,以MEMS技术为基础开发的各类传感器是西人马公司重点展示和推广的产品。
△西人马展出的压阻式压力传感器
西人马公司MEMS芯片及传感器生产线车间,配备8英寸向下兼容6英寸的MEMS智能传感器芯片产线和MEMS器件加工平台,拥有6000平方米的高等级洁净车间,具备深硅刻蚀、键合、光刻、原子力显微镜、扫描电镜等先进的制造、封装与检测设备,具备一体化的量产能力。
例如在MEMS芯片制程过程中,西人马公司采用专业的刻蚀机,使用电感耦合等离子体(ICP)来实现刻蚀,钝化沉积和刻蚀交替进行,快速形成一个垂直的侧壁,具有高选择比和高刻蚀速率的优点。
△西人马先进的刻蚀机
另外,西人马的光刻技术也处于比较先进的水平。西人马公司引进了ASML光刻机以及日本的自动涂胶机和显影机。光刻机是将涂完胶的晶圆通过曝光将掩模版上的图形转移到Wafer表面。最后经过显影,在Wafer表面形成最后的图形。而自动涂胶机的作用是将光刻胶均匀涂到晶圆表面上,以方便后面的曝光显影。
西人马公司利用扫描电子显微镜(SEM)对MEMS器件关键工艺的微观形态进行测试、分析,实现SEM对MEMS的有效测量和工艺验证。而原子力显微镜(AFM)是利用微悬臂系统和放大臂上面的细小探针与被测物体之间的原子相互作用来进行检测,它的分辨率可以达到原子级别。
西人马公司十分重视对质量品质的管控。以MEMS压阻式压力传感器为例,通过高精度压力源,再通过高精度的直流电源,可以测量到在不同的压力源下产品的各种特性,包括传感器的灵敏度、零位输出、满量程输出。另外,还可以计算出传感器的线性、迟滞、重复性,最后可以得到传感器的综合精度。目前西人马压力传感器的综合精度可以达到±0.05%,已经达到国际水准。
如果您想进一步了解西人马公司或寻找合作商机,欢迎在10月27-29日莅临苏州国际博览中心B馆T27展位,西人马期待您的光临。
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